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高能效功率电子技术领域的新进展

中心议题:

从工艺到材料都在创新 功率器件更加智能 封装技术潜力无限 持续推动工艺技术进步
从1957年第一只晶闸管的诞生开始,功率电子技术以相当迅猛的速度发展。近年来又取得了长足的进展,产生极佳的经济及社会效益。从美国高能效经济委员会(ACEE)出版的一份报告可以看到,到2030年,受益于采用半导体技术而获得的更高能效,可以使美国的经济规模扩大70%以上,与此同时,使用的电能却将减少11%。作为高能效功率电子技术领域的领先厂商,安森美半导体一直专注于超低损耗MOSFET/IGBT、智能电源IC及集成功率模块等方面的研发和创新,而且取得了长足的进展。

从工艺到材料都在创新

随着时间的推移,功率晶体管技术得到了持续的改善。器件的体积不断缩小,功率密度越来越高。在电压高于1 kV的大功率晶体管方面,双极结构已成为首选;低于1 kV电压,特别是频率高于100 kHz时,更多采用的是MOSFET。高于此电压的大电流应用则选择IGBT。

开发这类器件的主要挑战在于,在开关频率持续上升时,需要通过减小由导通阻抗导致的导电损耗、降低内部电容,以及改善反向恢复性能,将内部损耗降到最低。由于击穿电压更高及未钳位开关特性(UIS)的缘故,提升击穿强固性也非常重要。

以往,开发电压低于40 V的低压MOSFET的重点在于给定导通阻抗条件下将裸片尺寸减至最小,从而降低单位成本。因此,最重要的质量因子(Figure of Merit, FOM)就是单位为mΩ x mm2的特征导通阻抗(RDS(ON)spec)。由于低压FET中沟道阻抗(channel resistance)对特征导通阻抗有较大影响,业界主要致力于在可用面积上配置尽可能多的FET沟道。平面沟道被垂直“沟槽门”沟道替代,同时使用先进的光刻技术来缩小表面尺寸。

但是,减小沟槽FET间距的方法并不能轻松达到采用RDS(ON)xQg(d)定义的关键质量因子,因为单位面积上的导通阻抗方面的改进被单位面积门电荷(Qg)增加所抵消。开发就转向了诸如沟槽FET(带有额外解耦垂直场效电板从漏极屏蔽门极)、沟槽LDMOS(结合了沟槽MOS的紧凑性及背面漏极与LDMOS的较低Qg(d))以及优化了金属化/封装的LDMOS等架构。

虽然多年来基于硅的晶体管有了持续改进,但硅基材料特性上的限制表明,未来十年人们还需要寻求其它可用方案。目前,利用宽带隙材料(氮化镓、碳化硅及钻石)的方案已经出现。这些材料可以提供更好的热特性,开关损耗更低,而且结合了更有吸引力的低导通阻抗(RDS(ON))和高击穿电压(VBD)性能的优势。

宽带隙材料也可以在高压应用中实现重大突破。氮化镓和碳化硅的临界击穿场的数量级高于硅,迄今发布的器件也具有热导率更高(比硅高约3倍)的优势。在高于1 kV的应用中碳化硅是首选材料,而氮化镓则最适于电压低于1 kV的应用。然而,仍然需要克服一些技术障碍,如增加硅上厚氮化镓层以提供高额定电压、制造增强模式晶体管及提升可靠性等。预计未来几年首批高压氮化镓高电子迁移率晶体管(HEMT)就会上市。

功率器件更加智能

智能电源集成电路(Smart power IC)是一种在一块芯片上将"智能"和"电源"集成起来的全新器件。它广泛应用于包括电源转换器、马达控制、荧光灯整流器、自动开关、视频放大器、桥式驱动电路以及显示驱动等多个领域。中国是全球最大的消费电子产品市场,随着人们经济生活水平的不断提高,各种电子产品的需求与日俱增,预示着智能功率集成电路有巨大的市场。

智能电源IC采用结合型双极/CMOS/DMOS(BCD)技术,使模拟、数字及电源方面的系统设计能够整合在单片衬底上。后续的BCD工艺改善了高压隔离、数字特征尺寸(提供更高模拟精度、逻辑速度、密度等)及功率处理能力。现代工艺能够整合数字处理器、RAM/ROM内存、内嵌式内存及电源驱动器。例如,采用BCD工艺可以在单芯片上整合电源、逻辑及模拟等诸多功能。

随着CMOS几何尺寸的持续缩小,高内嵌智能的需求导致16/32位处理器、多Mb ROM/RAM及非挥发性内存,及复杂数字知识产权(IP)的整合。为了模组更高精度感测机制、高比特率数据转换、不同接口协议、预驱动器/控制环路,及精确片上电压/电流参考的需求,模拟功能也在不断增多。业界已经推出了100至200 V及5至10 A的电源驱动器。这些器件带有低导通阻抗,及利用深沟槽及绝缘硅(SOI)技术的高密度、强固型高压隔离架构。

用于AC-DC逆变器的整合型600 V晶体管技术与用于低于100 V应用的技术相辅相成,被证明是另一个重要市场。先进的亚微米CMOS工艺将推动低成本、低导通阻抗驱动器的整合从传统LDMOS器件转向双及三低表面电场(RESURF) DMOS、超结LDMOS及LIGBT。

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功率电子器件从硅(Si)到碳化硅(SiC)的过渡

众所周知,硅(Si)材料及其基础上的技术方向曾经改变了世界。硅材料从沙子中提炼,构筑了远比沙土城堡更精密复杂的产品。如今,碳化硅(SiC)材料作为一种衍生技术进入了市场——相比硅材料,它可以实现更高功率等级的功率转换、更快的开关速度、传热效率上也优于硅材料。本篇博客探讨了SiC材料如何提升产品性能以超越基于硅材料的领域,从而为我们全新的数字世界创造下一代解决方案。

硅基MOSFET、碳化硅(SiC)MOSFET、氮化镓(GaN)HEMT或碳化硅(SiC)FET等功率电子器件是用于众多市场领域的主要技术构件。长期以来,硅一直是功率电子应用中的首选半导体材料。直到最近,由于SiC技术性能和可靠性的显著提升,人们开始从硅转向SiC器件。

SiC的性能优势已在电动车、白色家电、基础设施、太阳能/可再生能源、数据中心等多个电力电子市场产生深远的影响。得益于更大的带隙能量(即3.3eV,而硅为1.1eV——参见图2)和更高的击穿电压,SiC可用于创建更新颖、更高性能的解决方案。

如今,制造商采用SiC技术来开发基于各种半导体器件的功率电子模块,如双极结型晶体管(BJT)、结型场效应晶体管(JFET)和金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。在接下来的章节中,我们将探讨为何SiC正在成为面向未来的突破性电力电子技术。

1. 采用SiC vs. Si:优势对比

首先,SiC MOSFET或SiC FET与硅器件相比具有若干优势。SiC更高的击穿电压意味着可以使用更轻薄的器件来支持更高的电压。另外,SiC相较于硅的其它优势还包括:

  • 作为一种宽带隙材料,在高温条件下漏电流较低;
  • 更高的热导率,有助于支持高电流密度应用;
  • 更低的能量损耗,有助于最大限度减少功率损耗;
  • 更高的开关频率,减小了大型外围被动元器件的尺寸和重量;
  • 较小的裸片尺寸和较低寄生电容带来更低的开关损耗,使得功率转换器能够在更高的开关频率及速度下运行;
  • 能够在更高的环境温度下正常工作,有助于减小散热器的尺寸。
  • 由此,我们现在可以看到SiC器件相对于硅基器件的诸多优势;这也成为许多应用从硅转向SiC的原因。

    2. 了解SiC的电热优势

    在电力电子领域,如何在高功率应用中有效减少或最小化功耗损失一直是非常重要的。与此类似,满足极端条件下的热设计要求也是非常重要的。SiC不但能够满足以上这些要求,其漏极-源极电阻(RDS(ON))比硅器件低300到400倍。这一品质因数(FOM)是生产厂家的福音,基于这个特点,这些客户可以设计出高效率的电力电子设备。此外,有效裸片面积相同的情况下,碳化硅器件(SiC)可以转换的功率等级比基于硅(Si)的器件更高——换句话说,碳化硅器件(SiC)可以用更小的芯片尺寸实现相同的功率等级转换。

    此外,SiC具有较高的电热导率和快速开关功能,以及较低的输出电容与RDS(ON)。因为碳化硅(SiC)器件可以转换更高等级的能量并且理论上具备更高的开关频率,可以帮助制造商节省系统成本。原因何在?因为这些品质因数(FOM)意味着那些被动元器件的尺寸可以大大减少,例如:变压器、扼流圈和电感器等磁性部件,而这些器件在开关电源设计中所有开关电源设计中都必不可少的;所有这些FOM意味着碳化硅器件(SiC)将在三相逆变器、数字电源和功率电子变换器(AC/DC和DC/DC)等应用中大有作为。

    效率是各个制造商当下所追求的另一个FOM。鉴于全球都在推进“绿色”能源倡议,在许多应用中,效率也已成为一个关键的推动因素。下文中的图1显示了SiC相对于硅材料可实现更高的效率;这使其成为当今许多下一代设计中的首选技术。

    图1,硅(Si)与碳化硅(SiC)的比较

    SiC等宽带隙半导体技术是下一代高效功率电子器件的理想选择(见图2)。SiC从650V电压开始便表现出出色的电压阻断能力,且在更高电压下所带来的优势更为显著。下一代解决方案的一个关键举措是“绿色(即高能效)”系统的构建。SiC则可提供这种能力——其宽带隙特性可实现更高的功率效率、更小的尺寸、更轻的重量,和更低的总体成本——即相当于“更环保”的解决方案。

    图2,硅(Si)和碳化硅(SiC)参数对比表格

    3. 写在最后:一些结论

    现在,我们对Si与SiC之间的比较有了更好的理解。在我们所处的全新数字世界,两者在诸多应用中均占有一席之地;然而,在很多解决方案中,SiC能够实现更优秀的性能指标。SiC技术能够被应用在广泛的电力电子解决方案中。由于具备较广的工作栅极驱动范围,在高频DC/DC和AC/DC等应用中采用SiC会带来许多优势。此外,在电动车逆变器中使用SiC,更可获得更低的导通损耗和强大的短路处理能力。

    SiC技术的不断进步将促使其在更多应用中得到推广,并开拓其它领域。同时,封装设计的进步、市场接受度的提高,以及市场空间的快速增长,都会进一步助力SiC技术应用于更多解决方案,更多的SiC碳化硅MOS,可联系瑶芯微代理。