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SiC碳化硅MOSFET的基本结构及SIC MOS的主要参数


SiC碳化硅MOS内部晶胞单元的结构,主要有二种:平面结构和沟槽结构。


平面SiC MOSFET的结构的特点是工艺简单,单元的一致性较好,雪崩能量比较高。但是,这种结构的中间,N区夹在两个P区域之间,当电流被限制在靠近P体区域的狭窄的N区中流过时,将产生JFET效应,从而增加通态电阻;同时,这种结构的寄生电容也较大。

沟槽SiC MOSFET的结构将栅极埋入基体中,形成垂直的沟道,由于要开沟槽,工艺变得复杂,单元的一致性、雪崩能量比平面结构差。但是,由于这种结构可以增加单元密度,没有JFET效应,沟道晶面实现最佳的沟道迁移率,导通电阻比平面结构要明显的降低;同时,寄生电容更小,开关速度快,开关损耗非常低,因此,新一代的结构都研究和采用这种结构。

碳化硅mosfet有哪些主要参数

碳化硅MOSFET相关的主要参数包括:

  1. 阈值电压(Vth)- 这是MOSFET开启的电压。随着Vth的增加,MOSFET的开关速度会变慢。
  2. 导通电阻(Rdson)- 这是MOSFET在线性区域内的电阻。它与MOSFET的尺寸和结构有关,Rdson越小,MOSFET的效率就越高。
  3. 最大漏电流(Idmax)- 这是MOSFET在最大允许温度下能承受的最大漏电流。
  4. 最大额定电压(Vdss)- 这是MOSFET能够承受的最大电压。
  5. 开关速度(switching speed)- 这是MOSFET的开关时间,即从关到开或从开到关的时间。它通常说是在负载电感和电容条件下的开关时间。

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